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氧含量檢測

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晶片在生產過程中↟↟✘│·,原本大氣中O2會和Si產生化學反應得O2+Si=SiO2(二氧化矽)為原始的氧化層↟↟✘│·,如果管路的氧含量過高↟↟✘│·,原始的氧化層會超出原本已計算好的厚度↟↟✘│·,如此會嚴重影響接下來各階段的製程↟•。

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